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什么是双光子3D纳米打印?UCSB用115万美元给出了答案

来源:中喷网 发布日期:2026-07-07 213

 

编者:中喷网 墨宸

据报道,加州大学圣巴巴拉分校(简称UCSB)已获得美国国家科学基金会115万美元的拨款,用于购置一套基于双光子光刻技术的3D快速纳米打印系统。该设备将提升UCSB纳米制造中心的制造能力。

加州大学圣巴巴拉分校获得美国国家科学基金会115万美元拨款,用于研发双光子3D纳米打印系统。

该提案的首席研究员是加州大学圣巴巴拉分校(UCSB)电子与计算机工程系的教授加兰·穆迪(Galan Moody),合作者包括四位联合首席研究员:生物工程系的马利·杜威(Marley Dewey)、物理系的安德鲁·杰伊奇(Andrew Jayich)、机械工程系的苏米塔·彭纳瑟(Sumita Pennathur)以及物理系的安德里亚·杨(Andrea Young)。穆迪表示,这项资助将使加州大学圣巴巴拉分校在美国学术界一类仍然稀缺的工具领域处于领先地位,目前全美只有少数几所大学拥有具备此类功能的设备。

该团队认为这套设备填补了现有制造方法的空白。提案指出,目前的纳米制造工具虽然能够以约十纳米的分辨率在晶圆级平面(二维)上制造半导体、介电材料和金属,但已接近其极限。制造日益精密的三维微结构通常需要额外复杂且耗时的步骤。穆迪解释说,传统的微影技术只能将图案转移到仅几百纳米厚的薄膜上,几乎没有空间在垂直方向上进行构建。

与以往通过堆叠薄层构建三维物体的增材制造系统不同,这种新型系统可以直接在芯片上以真正的三维方式打印微结构。这项独特的能力为复杂结构和器件的纳米级和微米级加工开辟了新的途径,不再受限于几何形状或二维平面。量子光子学是其典型的应用领域,该领域长期以来一直面临着光从芯片耦合到光纤过程中的光损耗问题。该设备可以在芯片边缘或光纤上打印宽度小于50微米的聚合物透镜,以优化光模式,最大限度地减少耦合过程中的光损耗。

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