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璞璘科技交付中国首台半导体级喷墨步进纳米压印光刻系统
2025 年 8 月 1 日，璞璘科技自主设计研发的首台 PL-SR 系列喷墨步进式纳米压印设备顺利通过验收并交付至国内特色工艺客户。此次设备交付是公司业务拓展和市场渗透的新... [详细]
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佳能推出竞争性纳米压印光刻设备
去年，佳能推出了首款纳米压印光刻（NIL）设备，与ASML的极紫外（EUV）和先进的深紫外（DUV）光刻设备竞争激烈。据《金融时报》报道，佳能宣布首批客户预计在今年或明年... [详细]
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